[实用新型]一种SiC生长坩埚平台有效
申请号: | 201620384311.7 | 申请日: | 2016-04-29 |
公开(公告)号: | CN205711043U | 公开(公告)日: | 2016-11-23 |
发明(设计)人: | 宗艳民 | 申请(专利权)人: | 山东天岳晶体材料有限公司 |
主分类号: | C30B29/36 | 分类号: | C30B29/36;C30B35/00 |
代理公司: | 济南舜源专利事务所有限公司 37205 | 代理人: | 苗峻 |
地址: | 250118 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本申请涉及SiC生产技术领域,具体为一种SiC生长坩埚平台。该装置通过螺栓将两块石墨平台连接在一起,并将坩埚固定于两块石墨平台之间,当石墨受热膨胀时,由于螺栓的固定,石墨平台不会发生位置平移,从而保障了坩埚位置的稳定性。另外,在两块石墨平台相对的一侧,在每个石墨平台上设有一个半圆,两个半圆内侧设置有加热套,坩埚正好放置于该加热套内,使得坩埚受热均匀,避免了坩埚内由于局部过热而对产品造成影响,也避免了坩埚内由于局部受不到热,而对能源造成浪费。 | ||
搜索关键词: | 一种 sic 生长 坩埚 平台 | ||
【主权项】:
一种SiC生长坩埚平台,其特征在于,包括第一石墨平台(1)和第二石墨平台(3),所述的第一石墨平台(1)和第二石墨平台(3)通过两个螺栓(2)连接在一起,两根螺栓(2)分别贯穿第一石墨平台(1)和第二石墨平台(3)的两侧,所述的第一石墨平台(1)和第二石墨平台(3)相对的一侧,在每个平台上分别设有半圆,两半圆大小及相对位置为对应的,两个半圆内侧设置有加热套(9),坩埚(8)正好放置于该加热套内。
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