[实用新型]晶片清洗装置

摘要

晶片清洗装置，包括机架，设置在机架上的上支撑板和下支撑板，在上支撑板和下支撑板之间设置有晶片载具，在下支撑板的中部具有一轴接驱动电机的中间转轴，在上支撑板上设置有上滚刷和上喷头，驱动上滚刷旋转的滚刷电机固定在上支撑板上，上喷头位于上支撑板的另一端，与上喷头相连接的喷淋管与供液管连接，在下支撑板上设置有下滚刷和下喷头，在机架的下支撑板上设置有排液管，所述排液管与供液管连接，在所述排液管上还设置有过滤器；本实用新型通过喷头喷洒清洗液及滚刷的刷洗，以实现对晶片的清洁，在所述排液管上还设置有过滤器。使用过的清洗液经过滤后可以重新利用，有利于节约企业成本。

主权项

一种晶片清洗装置，包括机架（6），设置在机架（6）上的上支撑板（4）和下支撑板（18），在上支撑板（4）和下支撑板（18）之间设置有晶片载具（17），所述晶片载具（17）呈圆盘形，在晶片载具（17）的中间开设有齿型孔（15），晶片载具的盘面上均匀布置有若干安装晶片（7）的载片穿孔（16），在下支撑板（18）的中部具有一轴接驱动电机（12）的中间转轴，所述中间转轴（13）的外圈齿轮与所述齿型孔啮合连接，其特征在于：在上支撑板（4）上设置有上滚刷（1）和上喷头（5），上滚刷（1）设置在上支撑板（4）的一端且位于晶片（7）的正上方，驱动上滚刷（1）旋转的滚刷电机（3）固定在上支撑板（4）上，上喷头（5）位于上支撑板（4）的另一端，与上喷头（5）相连接的喷淋管（2）与供液管（8）连接，在下支撑板（18）上设置有下滚刷（14）和下喷头（11），上滚刷（1）与下喷头（11）上下位置对应，上喷头（5）与下滚刷（14）上下位置对应，在机架（6）的下支撑板（18）上设置有排液管（9），所述排液管（9）与供液管（8）连接，在所述排液管（9）上还设置有过滤器（10）。