[实用新型]一种抛光机的压力调节器有效
申请号: | 201620411760.6 | 申请日: | 2016-05-09 |
公开(公告)号: | CN206010736U | 公开(公告)日: | 2017-03-15 |
发明(设计)人: | 余建琳;王宇 | 申请(专利权)人: | 四川天乐信达光电有限公司 |
主分类号: | B24B29/00 | 分类号: | B24B29/00;B24B51/00 |
代理公司: | 成都正华专利代理事务所(普通合伙)51229 | 代理人: | 李蕊,李林合 |
地址: | 611200 四川省成都*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种抛光机的压力调节器,包括设置在抛光机机架上的气缸以及与气缸配合使用的活塞杆,气缸通过活塞杆与抛光上盘连接,活塞杆上设有称量器,活塞杆的下端与微调器连接;还包括控制压力的控制系统,控制系统包括控制中心以及与控制中心输入端连接的压力传感器和位移传感器,控制中心的输出端与微调器和安装在称量器上的显示器连接。本实用新型通过控制中心将压力传感器采集到的压力值与预设做对比,并将对比结果传输至微调器来达到实时调节抛光上盘与被加工产品之间的压力的目的,使抛光上盘与表面光洁度不同的产品之间的压力相匹配,从而改善抛光机的抛光效率和成品率。 | ||
搜索关键词: | 一种 抛光机 压力 调节器 | ||
【主权项】:
一种抛光机的压力调节器,其特征在于:包括设置在抛光机机架上的气缸(1)以及与气缸(1)配合使用的活塞杆(2),所述气缸(1)通过活塞杆(2)与抛光上盘(6)连接,所述活塞杆(2)上设有称量器(3),所述活塞杆(2)的下端与微调器(5)连接;其特征在于:还包括控制系统,所述控制系统包括控制中心以及与控制中心输入端连接的压力传感器(7)和位移传感器,所述控制中心的输出端与微调器(5)和安装在称量器(3)上的显示器(9)连接。
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