[实用新型]一种掩膜版的固定装置有效
申请号: | 201620424290.7 | 申请日: | 2016-05-10 |
公开(公告)号: | CN205594305U | 公开(公告)日: | 2016-09-21 |
发明(设计)人: | 张振华 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;张天舒 |
地址: | 230012 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型提供一种掩膜版的固定装置,属于显示技术领域,其可解决现有的掩膜版手动直接触摸搬运不方便,易损坏、污染掩膜版的问题。本实用新型的掩膜版的固定装置的多边形支架上设有至少两个卡夹和用于人工持握的把手,这样在使用该固定装置时,采用支架上的至少两个卡夹卡住掩膜版的两条相对的边缘,然后人工手持把手完成掩膜版的搬运。搬运过程中,卡夹将掩膜版卡紧,不会发生摔碎掩膜版的情况,而且,人工手持把手可以避免直接触摸掩膜版给掩膜版表面造成划伤或者污染。本实用新型的掩膜版的固定装置适用于各种掩膜版的搬运,尤其适用于搬运重量大的掩膜版。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜版 固定 装置 | ||
【主权项】:
一种掩膜版的固定装置,其特征在于,包括多边形支架,所述支架的边上设有至少两个卡夹,用于卡住掩膜版的两条相对的边缘,所述支架的边上还设有把手,用于人工持握。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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