[实用新型]一种线性蒸发源及蒸镀装置有效
申请号: | 201620445036.5 | 申请日: | 2016-05-16 |
公开(公告)号: | CN205616946U | 公开(公告)日: | 2016-10-05 |
发明(设计)人: | 王震;林治明;黄俊杰 | 申请(专利权)人: | 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 017000 内蒙古*** | 国省代码: | 内蒙古;15 |
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摘要: | 本实用新型实施例公开了一种线性蒸发源及蒸镀装置。该线性蒸发源包括:包括坩埚,还包括:位于所述坩埚上的一组喷嘴、至少一组备用喷嘴和位于坩埚内可移动的挡板;其中:所述一组喷嘴由在所述坩埚上均匀分布的多个喷嘴组成;所述各组备用喷嘴由在所述一组喷嘴中各喷嘴的一侧设置的备用喷嘴组成;所述挡板上具有仅露出所述一组喷嘴中各喷嘴或者一组备用喷嘴中各备用喷嘴的多个开孔。该方案中,为一组喷嘴设置有至少一组备用喷嘴,在一组喷嘴发生堵塞时,可以通过移动挡板更换一组备用喷嘴,这样,与现有技术的方案相比,就无需中断蒸镀过程降温破真空进行清洗处理,从而提高了生产效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 线性 蒸发 装置 | ||
【主权项】:
一种线性蒸发源,包括坩埚,其特征在于,还包括:位于所述坩埚上的一组喷嘴、至少一组备用喷嘴和位于坩埚内可移动的挡板;其中:所述一组喷嘴由在所述坩埚上均匀分布的多个喷嘴组成;所述各组备用喷嘴由在所述一组喷嘴中各喷嘴的一侧设置的备用喷嘴组成;所述挡板上具有仅露出所述一组喷嘴中各喷嘴或者一组备用喷嘴中各备用喷嘴的多个开孔。
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