[实用新型]一种硅片清洗后跨区域传递窗有效
申请号: | 201620462829.8 | 申请日: | 2016-05-20 |
公开(公告)号: | CN205789882U | 公开(公告)日: | 2016-12-07 |
发明(设计)人: | 张倩;王峥;史舸;邵奇;魏海霞 | 申请(专利权)人: | 麦斯克电子材料有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/02 |
代理公司: | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙)41120 | 代理人: | 狄干强 |
地址: | 471000 河南省洛阳*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 一种硅片清洗后跨区域传递窗,包括沟通两个区域的传递通道和设置在传递通道两侧的带电磁互锁窗门,传递通道内设置有水槽、向水槽内注入纯水的进水管和排出水槽内纯水的排水管,水槽的底部设置有若干排水槽底座。本实用新型通过在传递通道底部设置水槽,并在水槽内安装进水管和排水管,保证水槽内一直有新鲜纯水流动,保证水槽洁净度,在水槽底部设置带有台阶的水槽底座,通过相邻两个水槽底座上的台阶将不同尺寸的硅片片盒固定,具有结构简单,操作方便,安全性能好,可以减少清洗后带水硅片在传递过程中沾污的风险,并能降低物料流通时对环境的影响,使生产能更顺利进行的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 硅片 清洗 跨区 传递窗 | ||
【主权项】:
一种硅片清洗后跨区域传递窗,包括沟通两个区域的传递通道(1)和设置在传递通道(1)两侧的带电磁互锁窗门(2),以限定两个窗门(2)只能单独打开,其特征在于:所述传递通道(1)内设置有水槽(3)、向水槽(3)内注入纯水的进水管(4)和排出水槽(3)内纯水的排水管(5),水槽(3)的底部设置有若干排水槽底座(6),相邻两排水槽底座(6)之间具有间隙,且这两排水槽底座(6)相对的侧面上具有三个台阶,以使这三个台阶上分别卡设6英寸、5英寸和4英寸的硅片片盒。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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