[实用新型]双面膜曝光结构有效

专利信息
申请号: 201620464559.4 申请日: 2016-05-22
公开(公告)号: CN205750277U 公开(公告)日: 2016-11-30
发明(设计)人: 余燕青;陈泽强 申请(专利权)人: 东莞市友辉光电科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 东莞市创益专利事务所 44249 代理人: 李卫平
地址: 523000 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及柔性电子产品应用技术领域,尤其是双面膜曝光结构,具有:一曝光工位,该曝光工位可实现上下两面曝光;一上端球面镜和一下端球面镜分别设置在曝光工位的上下端,该上端球面镜将相应地紫外光投射到曝光工位的上表面,而下端球面镜将相应地紫外光投射到曝光工位的下表面;上端球面镜和下端球面镜投射同一光源发出的紫外光,上端球面镜和下端球面镜采用先后投射的工作模式。本实用新型实现双面膜曝光,无需翻转重复单面曝光工作,优化工艺,提升工作效率及工作质量。结构简单,投资成本低,使用及维护简便,符合产业利用,极大提升机器设备的运行效,以及降低运行成本。
搜索关键词: 双面 曝光 结构
【主权项】:
双面膜曝光结构,其特征在于:该结构具有:一曝光工位(1),该曝光工位(1)可实现上下两面曝光;一上端球面镜(2)和一下端球面镜(3)分别设置在曝光工位(1)的上下端,该上端球面镜(2)将相应地紫外光投射到曝光工位(1)的上表面,而下端球面镜(3)将相应地紫外光投射到曝光工位(1)的下表面。
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