[实用新型]双面膜曝光对位结构有效

专利信息
申请号: 201620464561.1 申请日: 2016-05-22
公开(公告)号: CN205691938U 公开(公告)日: 2016-11-16
发明(设计)人: 余燕青;陈泽强 申请(专利权)人: 东莞市友辉光电科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00;H05K3/00
代理公司: 东莞市创益专利事务所 44249 代理人: 李卫平
地址: 523000 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及柔性电子产品应用技术领域,尤其是双面膜曝光对位结构,具有一曝光工位,该曝光工位可实现上下面曝光;在曝光工位上设有基座平台单元、可以对位移动单元、装载下铬版单元、可以对位和上下移动单元、上下铬版间距检测的激光探头和基于图像原理的摄像机。基于图像原理对位,视觉效果佳,可快速、准确的实现上铬版与基材的靶标检测对准;且设有上下铬版间距检测的激光探头,通过激光检测上铬版重复到位的距离,从而保证基材在上下铬版间距一致性,在平行UV光均匀照射下,对铬版下的干膜进行曝光,显影后的基材才能精确的电子图案,从而避免或减少图形曝光不均匀,提升工作效率及工作质量。
搜索关键词: 双面 曝光 对位 结构
【主权项】:
双面膜曝光对位结构,该结构具有一曝光工位(100),该曝光工位(100)可实现上下面曝光;在曝光工位(100)上设有基座平台单元(1)、可以对位移动单元(2)、装载下铬版单元(3)、可以对位和上下移动单元(4)、上下铬版间距检测的激光探头(5)和基于图像原理的摄像机(6),其特征在于:所述基座平台单元(1)设置四个第一XY平台(11),分布在基座平台单元(1)的四个角落,其中三个第一XY平台(11)由第一电机(12)驱动,以便与基材靶标对位;所述可以对位移动单元(2)铺设在四个第一XY平台(11)上面,可以对位移动单元(2)上设置四个第二XY平台(21),四个第二XY平台(21)分布在可以对位移动单元(2)的四个角落,其中三个第二XY平台(21)由第二电机(22)驱动,以便与上面铬版的靶标对位;所述可以对位移动单元(2)四个角落还铺设四根升降丝杆(23),升降丝杆(23)与第三电机(44)连接,其中前面两根升降丝杆(23)中间铺设四排滚珠轴承(41);所述装载下铬版单元(3)铺设在四个第二XY平台(21)上面,装载下铬版单元(3)上铺设装载下铬版抽格(32),装载下铬版抽格(32)上面安装下铬版(33),在下铬版单元(3)的后面设置有两个限位(31);所述可以对位和上下移动单元(4)悬挂在四根升降丝杆(23)的中间,跟随第三电机(44)上下移动,可以对位和上下移动单元(4)下面设置装载上铬版抽格(42),装载上铬版抽格(42)下面安装上铬版(43);可以对位和上下移动单元(4)上面的前后边上设置四个激光探头(5),激光探头(5)由气缸(51)驱动;可以对位和上下移动单元(4)上面左右侧边上设置四个摄像机(6),摄像机(6)由第四电机(61)控制伸出长度,抓取基材的靶标和上铬版的靶标进行比较对位。
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