[实用新型]一种双重高性能静密封结构有效
| 申请号： | 201620474776.1 | 申请日： | 2016-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN205689764U | 公开（公告）日： | 2016-11-16 |
| 发明（设计）人： | 项宪绍 | 申请（专利权）人： | 上海耐利流体设备有限公司 |
| 主分类号： | F16J15/34 | 分类号： | F16J15/34;F16J15/24 |
| 代理公司： | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人： | 林彦之 |
| 地址： | 201600 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种双重高性能静密封结构，包括安装底座，依次设置在安装底座上的静环座、静环和动环，所述静环与静环座之间设置有静环密封圈，所述安装底座与静环座底面之间设置有第一静密封圈，所述安装底座与静环座侧面之间设置有第二静密封圈。通过在安装底座与静环座底面之间设置有第一静密封圈，安装底座与静环座侧面之间设置有第二静密封圈，使得整个结构形成双重高性能静密封结构。由于设置了第二静密封圈，故第一静密封圈由直接接触流体介质改为间接接触流体介质，可以降低由于轴向窜动带来的密封失效的风险，延长整个密封机构的使用寿命，具有良好的经济效益。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双重 性能 密封 结构 | ||
【主权项】：
一种双重高性能静密封结构，包括安装底座，依次设置在安装底座上的静环座、静环和动环，其特征在于：所述静环与静环座之间设置有静环密封圈，所述安装底座与静环座底面之间设置有第一静密封圈，所述安装底座与静环座侧面之间设置有第二静密封圈。
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