[实用新型]一种基于泰伯效应恢复光栅缺陷的紫外光刻装置

摘要

本实用新型公开了一种基于泰伯效应恢复光栅缺陷的紫外光刻装置，属于微电子、微光学、微纳结构和光电子器件制备等微纳加工领域的光刻技术领域，解决现有技术存在的极紫外光源体积大，成本高，操作安全系数难以保证的问题。本实用新型包括高压汞灯、冷光椭球镜、冷光反射镜、快门、积木错位蝇眼透镜、聚光镜、大反射镜、精密工件台、计算机及电控系统。本实用新型用于对缺陷掩膜结构的完整恢复。

主权项

一种基于泰伯效应恢复光栅缺陷的紫外光刻装置，其特征在于：包括高压汞灯（1）、冷光椭球镜（2）、冷光反射镜（3）、快门（4）、积木错位蝇眼透镜（5）、聚光镜（6）、大反射镜（7）、精密工件台（8）、计算机及电控系统（13）；高压汞灯（1）：用于发出多种成分光，包括紫外i线光、h线光、g线光、可见光和红外光，作为对掩膜版和样片的照明与曝光光源；冷光椭球镜（2）：用于聚光、光能最大化，并过滤对曝光有害的可见光和红外等多种成分的长波段光；冷光反射镜（3）：用于再一次过滤长波段光，并对光路发挥转折作用；快门（4）：用于控制光的曝光时间和曝光剂量；积木错位蝇眼透镜（5）：用于将光进行均匀照明、消衍射和侧壁陡度处理；聚光镜（6）：用于将光准直为平行光，并对平行光进行扩束处理；大反射镜（7）：用于对光路起转折作用；精密工件台（8）：用于承载掩膜版和样片,以及将掩膜版和样片进行对准及定位支撑；计算机及电控系统（13）：用于对快门开启时间及曝光剂量的控制，对精密工件台的整体运动及掩膜版与样片的相对运动进行控制。