[实用新型]高效率抛光垫刻整与梳理装置有效
| 申请号： | 201620484203.7 | 申请日： | 2016-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN205765614U | 公开（公告）日： | 2016-12-07 |
| 发明（设计）人： | 张永尧 | 申请（专利权）人： | 张永尧 |
| 主分类号： | B24B53/017 | 分类号： | B24B53/017 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司31211 | 代理人： | 丁纪铁 |
| 地址： | 中国台湾新竹 市东*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种高效率抛光垫刻整与梳理装置，包含：一载盘；以及一刻整层；该刻整层具有复数个交错设置的凹沟以及复数个凸部，该凹沟具有一致的深度与宽度，该凸部具有一致的高度与宽度。本实用新型的高效率抛光垫刻整与梳理装置可以提供高效率的刻整与梳理作用。 | ||
| 搜索关键词： | 高效率 抛光 垫刻整 梳理 装置 | ||
【主权项】：
一种高效率抛光垫刻整与梳理装置，其特征在于，包含：一载盘；以及一刻整层，设置于所述载盘；所述刻整层具有复数个交错设置的凹沟，使该刻整层具有复数个呈规则排列的凸部，各该凸部概呈等高且各该凹沟概呈等深。
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