[实用新型]成像系统有效

专利信息
申请号: 201620485101.7 申请日: 2016-05-25
公开(公告)号: CN205792895U 公开(公告)日: 2016-12-07
发明(设计)人: R·莫里兹森;M·米利纳尔 申请(专利权)人: 半导体元件工业有限责任公司
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 申发振
地址: 暂无信息 国省代码: 美国;US
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摘要: 实用新型涉及成像系统,所述成像系统包括被布置成行和列的光电二极管的阵列,其中所述阵列包括3个光电二极管×3个光电二极管区域,所述区域包括一组四个非相邻光电二极管;滤色片阵列,其中所述滤色片阵列包括形成于所述组的四个非相邻光电二极管上方的一组四个滤色片元件,其中所述组的四个滤色片元件中的每个滤色片元件被配置成透射给定波长带的光;以及共用浮动扩散节点,其中所述组的四个非相邻光电二极管中的一对所述光电二极管形成于所述阵列的共同行中,并且耦合至所述共用浮动扩散节点。本实用新型用于成像领域。本实用新型的技术效果是改善电荷相加能力。
搜索关键词: 成像 系统
【主权项】:
一种成像系统,其特征在于,所述成像系统包括:被布置成行和列的光电二极管的阵列,其中所述阵列包括3个光电二极管×3个光电二极管区域,所述区域包括一组四个非相邻光电二极管;滤色片阵列,其中所述滤色片阵列包括形成于所述组的四个非相邻光电二极管上方的一组四个滤色片元件,其中所述组的四个滤色片元件中的每个滤色片元件被配置成透射给定波长带的光;以及共用浮动扩散节点,其中所述组的四个非相邻光电二极管中的一对所述光电二极管形成于所述阵列的共同行中,并且耦合至所述共用浮动扩散节点。
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