[实用新型]一种定位基站、定位终端及空间定位系统有效
申请号: | 201620508124.5 | 申请日: | 2016-05-30 |
公开(公告)号: | CN205830048U | 公开(公告)日: | 2016-12-21 |
发明(设计)人: | 李小虎;张超 | 申请(专利权)人: | 成都理想境界科技有限公司 |
主分类号: | H04W64/00 | 分类号: | H04W64/00;G01S5/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610041 四川省成都市高新*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种定位终端、定位基站和空间定位系统,定位基站固定设置在空间中预定位置处;定位基站包括激光扫描器和磁场发生器,激光扫描器用于以预定的扫射周期向空间中扫射定位光束,定位光束的截面为直线段;磁场发生器用于产生强度已知的低频电磁场;定位终端包括光传感器模组、磁场接收传感器和处理器,光传感器模组接收激光扫描器扫射的定位光束,磁场接收传感器接收磁场发生器产生的低频电磁场;处理器用于根据光传感器模组接收到定位光束的时间、所述扫射周期、定位基站预定位置、磁场发生器发射的低频电磁场强度以及磁场接收传感器接收到的低频电磁场强度,确定所述定位终端的位置,能用低成本的方式,实现高精度空间定位。 | ||
搜索关键词: | 一种 定位 基站 终端 空间 系统 | ||
【主权项】:
一种定位基站,其特征在于,包括激光扫描器和磁场发生器,所述磁场发生器用于产生强度已知的低频电磁场;所述激光扫描器包括第一扫描光源、第二扫描光源和同步光源;第一扫描光源和第二扫描光源均以预定扫射周期绕轴旋转,分别向待定位空间扫射第一定位光束和第二定位光束,所述第一定位光束的截面和第二定位光束的截面相交;所述同步光源,用于在满足启动条件时向所述空间发出同步光信号。
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