[实用新型]坩埚和蒸镀设备有效
申请号: | 201620517131.1 | 申请日: | 2016-05-26 |
公开(公告)号: | CN205774773U | 公开(公告)日: | 2016-12-07 |
发明(设计)人: | 孙力;王小虎;崔伟 | 申请(专利权)人: | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 230011 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型涉及显示器制备技术领域,公开了一种坩埚和蒸镀设备,可以使得坩埚在被重复放置的时候坩埚的喷口的指向不变,从而可以提高蒸镀设备蒸镀成膜的均匀性。其中坩埚包括:坩埚埚体,坩埚埚体用于存储蒸镀材料,坩埚埚体设有开口;坩埚盖,坩埚盖用于盖合坩埚埚体的开口,坩埚盖上设有与坩埚埚体连通的喷口,且坩埚盖可绕着坩埚埚体的轴线摆动;定位机构,用于限制喷口的轴线与标准线之间的夹角不变,标准线垂直于坩埚埚体的开口上方的基板。 | ||
搜索关键词: | 坩埚 设备 | ||
【主权项】:
一种坩埚,其特征在于,包括:坩埚埚体,所述坩埚埚体用于存储蒸镀材料,所述坩埚埚体设有开口;坩埚盖,所述坩埚盖用于盖合所述坩埚埚体的开口,所述坩埚盖上设有与所述坩埚埚体连通的喷口,且所述坩埚盖可绕着所述坩埚埚体的轴线摆动;定位机构,用于限制所述喷口的朝向以及所述喷口的轴线与标准线之间的夹角不变,所述标准线垂直于所述坩埚埚体的开口上方的基板。
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