[实用新型]用于Orbal氧化沟的精确曝气控制系统

摘要

本实用新型公开了一种用于Orbal氧化沟的精确曝气控制系统，包括设备层、自动化层及智能监控层；设备层包括转碟、Orbal氧化沟及沉淀池，自动化层包括进水仪表、生物池仪表、出水仪表、变频器和PLC控制系统，智能监控层包括上位机监控系统、参数输入、Orbal工艺仿真和表面曝气设备仿真，基于Orbal工艺仿真和表面曝气设备仿真实现精确曝气控制，工艺仿真模型能够根据进水水质、进水量和生物池中溶解氧的变化动态计算需氧量，由表面转碟模型动态计算出设备的精确控制参数，从而使生物池处在最优化的运行状态，出水达到既定的污水排放标准，从而减少转碟的耗电量、节约运营成本。

主权项

一种用于Orbal氧化沟的精确曝气控制系统，其特征在于，包括设备层、自动化层及智能监控层；设备层包括转碟、Orbal氧化沟及沉淀池，城市污水经Orbal氧化沟处理后进入沉淀池，然后经沉淀池处理后排出，Orbal氧化沟由内沟、中沟、外沟组成，内沟、中沟、外沟均连接有转碟；自动化层包括进水仪表、生物池仪表、出水仪表、变频器及PLC控制系统，进水仪表、生物池仪表、出水仪表、变频器均与PLC控制系统连接，进水仪表用于监测城市污水的进水的COD、NH3和进水流量，生物池仪表用于监测Orbal氧化沟中的溶解氧和浊度，出水仪表用于监测沉淀池的排水的COD、NH3和排水流量，变频器通过调节运行频率来改变转碟的曝气量；智能监控层包括上位机监控系统、参数输入、Orbal工艺仿真和表面曝气设备仿真，上位机监控系统用于采集仪表数据和设备状态，并负责与Orbal工艺仿真、表面曝气设备仿真及PLC控制系统进行数据交换，实现转碟的优化运行，参数输入用于设置Orbal氧化沟的工艺参数和转碟的设备参数，Orbal工艺仿真和表面曝气设备仿真根据仪表的数据和参数动态分析工艺运行状态，实时调节设备的运行参数。