[实用新型]激光直写双面曝光装置有效
| 申请号： | 201620549865.8 | 申请日： | 2016-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN206270652U | 公开（公告）日： | 2017-06-20 |
| 发明（设计）人： | 茆晓华 | 申请（专利权）人： | 江苏影速光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 徐州市三联专利事务所32220 | 代理人： | 周爱芳 |
| 地址： | 221000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种激光直写双面曝光装置，包括曝光平台（1）、激光器（2）、光转折器件（3）和二次曲面反射镜（4），激光器（2）、光转折器件（3）和二次曲面反射镜（4）设置在曝光平台（1）的两个侧面，光转折器件（3）位于激光器（2）和二次曲面反射镜（4）的中间位置。激光器发出的光束通过光转折器件打在二次曲面反射镜聚焦最终打在曝光平台的PCB板表面上，光转折器件可以使激光光斑在曝光平台上上下移动，由于曝光平台的前后移动和光斑的上下移动，激光光束完成二维平面的扫描，曝光简便、高效，大大降低成本，提高曝光质量。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 双面 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种激光直写双面曝光装置，其特征在于，包括曝光平台（1）、激光器（2）、光转折器件（3）和二次曲面反射镜（4），激光器（2）、光转折器件（3）和二次曲面反射镜（4）设置在曝光平台（1）的两个侧面，光转折器件（3）位于激光器（2）和二次曲面反射镜（4）的中间位置。
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