[实用新型]一种化学气相成膜装置有效
| 申请号： | 201620571345.7 | 申请日： | 2016-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN205669064U | 公开（公告）日： | 2016-11-02 |
| 发明（设计）人： | 黄彪;刘涛;张欣 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/513 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种化学气相成膜装置，包括：工艺腔本体，所述工艺腔本体内间隔设置基座，并在相邻基座之间的分隔板底侧设置与前级管道相连通的泵抽口；盖体，所述盖体之于所述基座内的隔离部全封闭位于所述分隔板底侧之泵抽口。本实用新型化学气相成膜装置通过在位于所述分隔板底侧之泵抽口端面设置盖体，使得所述盖体在例行保养维护时呈全封闭状态，不仅有效避免异物落入，而且使用方便，结构简单，无需额外的增加电气连接等。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 相成 装置 | ||
【主权项】：
一种化学气相成膜装置，其特征在于，所述化学气相成膜装置，包括：工艺腔本体，所述工艺腔本体内间隔设置基座，并在相邻基座之间的分隔板底侧设置与前级管道相连通的泵抽口；盖体，所述盖体之于所述基座内的隔离部全封闭位于所述分隔板底侧之泵抽口。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
