[实用新型]半导体封装有效

专利信息
申请号: 201620597055.X 申请日: 2016-06-17
公开(公告)号: CN205752162U 公开(公告)日: 2016-11-30
发明(设计)人: P·T·勒;A·尤恩戈 申请(专利权)人: 半导体元件工业有限责任公司
主分类号: H01L25/07 分类号: H01L25/07;H03F3/45
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 秦晨
地址: 美国亚*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 实用新型提供一种半导体封装,其包括具有源极连接器的导电基座(基座)。漏极连接器和栅极连接器与所述基座电耦接。耗尽型氮化镓场效应晶体管(GaN FET)和增强型横向扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(LDMOS FET)也与所述基座耦接。所述栅极连接器和所述LDMOS FET的栅极触点均包括在第一电节点中,所述源极连接器和所述LDMOS FET的源极触点均包括在第二电节点中,并且所述漏极连接器和所述GaN FET的漏极触点均包括在第三电节点中。所述GaN FET和LDMOS FET一起形成作为增强型放大器工作的共源共栅结构。所述半导体封装不包括位于所述GaN FET与所述基座之间或位于所述LDMOS FET与所述基座之间的插入器。
搜索关键词: 半导体 封装
【主权项】:
一种半导体封装,其特征在于包括:导电基座,所述基座包括源极连接器;与所述基座电耦接的漏极连接器;与所述基座电耦接的栅极连接器;与所述基座耦接的氮化镓场效应晶体管GaN FET;以及与所述基座耦接并且与所述GaN FET电耦接的横向扩散金属氧化物半导体场效应晶体管LDMOS FET,所述GaN FET和所述LDMOS FET一起形成共源共栅结构。
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