[实用新型]激光辅助放电EUV光源放电系统有效

专利信息
申请号: 201620599403.7 申请日: 2016-06-17
公开(公告)号: CN205670231U 公开(公告)日: 2016-11-02
发明(设计)人: 徐强;赵永蓬;王骐 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 代理人: 胡树发
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 激光辅助放电EUV光源放电系统,涉及极紫外(Extreme Ultraviolet,EUV)光刻光源领域,目的是为了满足Sn介质激光辅助放电等离子体(LDP)EUV光源的发展需要。该放电系统的高压电极与地电极为同轴设置的两个圆盘,多根金属杆位于两个圆盘之间、并且与圆盘的轴线平行,其中一根金属杆固定在高压电极的中心位置,其余的金属杆固定在地电极上,并且以地电极的中心为圆心、沿周向均匀分布,地电极的中心位置开有小孔;Sn靶安装在位于中心位置的金属杆的端部,该金属杆与其余的金属杆之间通过绝缘套隔开。该放电系统结构简单,成本低廉,适用于激光辅助放电等离子体EUV光源。
搜索关键词: 激光 辅助 放电 euv 光源 系统
【主权项】:
激光辅助放电EUV光源放电系统,其特征在于,所述放电系统包括Sn靶(1)、绝缘套(2)、高压电极(3)、地电极(4)和多根金属杆(5);高压电极(3)与地电极(4)为同轴设置的两个圆盘,多根金属杆(5)位于两个圆盘之间、并且与圆盘的轴线平行,其中一根金属杆(5)固定在高压电极(3)的中心位置,其余的金属杆(5)固定在地电极(4)上,并且以地电极(4)的中心为圆心、沿周向均匀分布,地电极(4)的中心位置开有小孔;Sn靶(1)安装在位于中心位置的金属杆(5)的端部,该金属杆(5)与其余的金属杆(5)之间通过绝缘套(2)隔开。
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