[实用新型]一种干刻设备的喷洒结构及其喷嘴连接块有效

专利信息
申请号: 201620609732.5 申请日: 2016-06-21
公开(公告)号: CN205789865U 公开(公告)日: 2016-12-07
发明(设计)人: 宋德伟;蒋文超 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 上海波拓知识产权代理有限公司31264 代理人: 孙燕娟
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提供一种干刻设备的喷洒结构及其喷嘴连接块。所述干刻设备的喷洒结构包括喷嘴连接块、固定螺栓及喷嘴,所述喷嘴连接块设有喷嘴连接孔及位于喷嘴连接孔两侧的两个螺栓固定孔,所述固定螺栓拧入所述螺栓固定孔内,将所述喷嘴连接块固定于干刻设备的腔室内部,所述喷嘴插设于所述喷嘴连接孔内。本实用新型通过改变喷嘴连接块的设计,将喷嘴连接块由原来的单边固定方式改为双边固定方式,可以有效避免由于保养时安装不当,造成喷嘴连接块单边翘起,引起特气外泄而导致的工艺不良问题。
搜索关键词: 一种 设备 喷洒 结构 及其 喷嘴 连接
【主权项】:
一种喷嘴连接块,其特征在于,所述喷嘴连接块包括设于其上的喷嘴连接孔以及位于喷嘴连接孔两侧的两个螺栓固定孔。
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