[实用新型]一种新型碳化硅单晶炉有效

专利信息
申请号: 201620617667.0 申请日: 2016-06-22
公开(公告)号: CN205856658U 公开(公告)日: 2017-01-04
发明(设计)人: 申请(专利权)人:
主分类号: C30B29/36 分类号: C30B29/36;C30B15/00
代理公司: 宜兴市天宇知识产权事务所(普通合伙)32208 代理人: 丁骞
地址: 214264 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种新型碳化硅单晶炉,它包括坩埚,在所述坩埚上方设有坩埚盖,在所述坩埚底部内侧设有下晶体生长平台,在所述坩埚盖下端面上设有上晶体生长平台,在所述坩埚内侧壁上设有物料室,在所述坩埚底部外侧设有旋转机构,在所述坩埚外部设有保温层,所述坩埚和坩埚盖都设在反应室内,在所述反应室外部设有感应线圈,所述感应线圈的分布高度占反应室高度的2/3‑4/5,所述坩埚的内径长度占反应室内径长度的3/5‑4/5,在所述反应室上设有压力控制装置和监测装置。本实用新型结构设置合理,控制精确,产品质量高。
搜索关键词: 一种 新型 碳化硅 单晶炉
【主权项】:
一种新型碳化硅单晶炉,其特征在于:它包括坩埚(1),在所述坩埚(1)上方设有坩埚盖(2),在所述坩埚(1)底部内侧设有下晶体生长平台(3),在所述坩埚盖(2)下端面上设有上晶体生长平台(4),在所述坩埚(1)内侧壁上设有物料室(5),在所述坩埚(1)底部外侧设有旋转机构(6),在所述坩埚(1)外部设有保温层(7),所述坩埚(1)和坩埚盖(2)都设在反应室(8)内,在所述反应室(8)外部设有感应线圈(9),所述感应线圈(9)的分布高度占反应室(8)高度的2/3‑4/5,所述坩埚(1)的内径长度占反应室(8)内径长度的3/5‑4/5,在所述反应室(8)上设有压力控制装置(10)和监测装置(11)。
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