[实用新型]用于化学气相沉积反应器的自定心晶片载体系统和单晶片基板载体

摘要

一种用于化学气相沉积(CVD)反应器的自定心晶片载体系统，其包括晶片载体，晶片载体包括边缘。晶片载体至少部分地支承晶片以便进行CVD处理。旋转管包括边缘，边缘在处理期间支承晶片载体。晶片载体的边缘几何结构和旋转管的边缘几何结构经选择在过程期间在所期望的过程温度提供晶片载体的中心轴线与旋转管的旋转轴线的重合对准。

主权项

一种用于化学气相沉积反应器的自定心晶片载体系统，其特征在于，所述晶片载体系统包括：a)晶片载体，其包括边缘，所述晶片载体至少部分地支承晶片以便进行化学气相沉积处理；以及b)旋转管，其包括边缘，所述晶片载体的边缘几何结构和所述旋转管的边缘几何结构经选择在过程期间在所期望的过程温度提供所述晶片载体的中心轴线与所述旋转管的旋转轴线的重合对准。