[实用新型]一种适用于板式PECVD的石墨框及承载装置有效
申请号: | 201620631482.5 | 申请日: | 2016-06-23 |
公开(公告)号: | CN205774794U | 公开(公告)日: | 2016-12-07 |
发明(设计)人: | 张标;党继东;晏文春 | 申请(专利权)人: | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;H01L31/18;H01L21/683 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司11332 | 代理人: | 孟金喆;胡彬 |
地址: | 215129 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种适用于板式PECVD的石墨框及承载装置。该适用于板式PECVD的石墨框包括内部中空且呈方形的石墨边框,所述石墨边框的至少一对相对的边框的内侧中部均设置有挂钩,所述石墨边框的四个边框内侧均沿对应边框的长度方向均设置有石墨挡板,所述石墨挡板的底端向所述石墨边框的内部倾斜设置;多个所述石墨挡板在所述石墨边框的内侧围成上大下小的锥形结构,该锥形结构的底面开口略大于硅片的尺寸;承载硅片时,所述硅片的至少一对相对的侧边分别挂设在对应侧的所述挂钩上,且所述锥形结构位于所述硅片的上方。该适用于板式PECVD的石墨框及承载装置,能够有效减少绕射,降低因绕射造成的背电场脱落以及漏电现象。 | ||
搜索关键词: | 一种 适用于 板式 pecvd 石墨 承载 装置 | ||
【主权项】:
一种适用于板式PECVD的石墨框(10),包括内部中空且呈方形的石墨边框(1),其特征在于,所述石墨边框(1)的至少一对相对的边框的内侧中部均设置有挂钩(3),所述石墨边框(1)的四个边框内侧均沿对应边框的长度方向均设置有石墨挡板(5),所述石墨挡板(5)的底端向所述石墨边框(1)的内部倾斜设置;多个所述石墨挡板(5)在所述石墨边框(1)的内侧围成上大下小的锥形结构,该锥形结构的底面开口略大于硅片的尺寸;承载硅片(2)时,所述硅片(2)的至少一对相对的侧边分别挂设在对应侧的所述挂钩(3)上,且所述锥形结构位于所述硅片(2)的上方。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的