[实用新型]一种并行光纤收发模块有效
申请号: | 201620634613.5 | 申请日: | 2016-06-24 |
公开(公告)号: | CN205880285U | 公开(公告)日: | 2017-01-11 |
发明(设计)人: | 申请(专利权)人: | ||
主分类号: | G02B6/42 | 分类号: | G02B6/42 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201607 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种并行光纤收发模块,它包括一个激光器阵列、一个光探测器阵列、一个驱动电路板和一个二维光纤阵列,激光器阵列和光探测器阵列在驱动电路板上贴装成两列,分别与光纤阵列中的两列光纤对准耦合,并以胶水固定,二维光纤阵列基于一个双面刻蚀的定位基片制作,本实用新型产生的有益效果是:通过微电子工艺中的双面曝光技术,在一片石英玻璃的两面制作掩模图形,然后通过化学腐蚀工艺刻蚀出高精度的光纤定位槽阵列。微电子工艺中的双面曝光光刻机,可以保证同一面中掩模图形具有较高的定位精度,满足并行光纤收发模块中的技术要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 并行 光纤 收发 模块 | ||
【主权项】:
一种并行光纤收发模块,应用于并行光纤传输系统中,它包括一个激光器阵列、一个光探测器阵列、一个驱动电路板和一个二维光纤阵列,其特征在于,激光器阵列和光探测器阵列在驱动电路板上贴装成两列,分别与光纤阵列中的两列光纤对准耦合,并以胶水固定;所述二维光纤阵列,基于一个双面刻蚀的定位基片制作;所述定位基片通过微电子工艺中的双面曝光技术,在一片石英玻璃的两面制作掩模图形,然后通过化学腐蚀工艺刻蚀出高精度的光纤定位槽阵列。
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