[实用新型]真空镀膜离子镀装置的阴极磁控装置有效
| 申请号： | 201620652256.5 | 申请日： | 2016-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN205856595U | 公开（公告）日： | 2017-01-04 |
| 发明（设计）人： | 申请（专利权）人： | ||
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海天协和诚知识产权代理事务所31216 | 代理人： | 蒋晏雯 |
| 地址： | 200082 上海市虹*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种真空镀膜离子镀装置的阴极磁控装置，包括相互连接的电机和支架，支架中间设有至少一根与电机相连的转动轴，转动轴上设有圆柱体滚柱，该圆柱体滚柱上开设凹槽，凹槽内设有磁铁。本实用新型在PVD涂层设备镀膜过程中，通过调节阴极背后磁控系统的电机速度，来调节磁铁转动速度，最终调整阴极表面电弧的速度和刻蚀区域，从而减小镀膜过程的液滴大小并达到提高靶材的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 离子镀 装置 阴极 | ||
【主权项】：
一种真空镀膜离子镀装置的阴极磁控装置，包括相互连接的电机和支架，其特征在于：所述支架中间设有至少一根与电机相连的转动轴，转动轴上设有圆柱体滚柱，该圆柱体滚柱上开设凹槽，凹槽内设有磁铁。
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