[实用新型]一种等离子体刻蚀装置和干法刻蚀设备有效
| 申请号： | 201620672052.8 | 申请日： | 2016-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN205692795U | 公开（公告）日： | 2016-11-16 |
| 发明（设计）人： | 宫奎;白明基;段献学;李贺飞 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 230012 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种等离子体刻蚀装置和干法刻蚀设备，用以通过所述等离子刻蚀装置实现对被刻蚀基板的均匀刻蚀，避免被刻蚀基板由于刻蚀不均匀而造成的不良，提高产品的质量。所述等离子体刻蚀装置，包括反应腔室、位于反应腔室内的相对而置的下部电极和上部电极，所述装置还包括：固定在所述下部电极底部的转轴、与所述转轴相连的电机，其中，所述电机位于所述反应腔室的外部，用于控制所述转轴带动所述下部电极进行转动。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 刻蚀 装置 设备 | ||
【主权项】：
一种等离子体刻蚀装置，包括反应腔室、位于反应腔室内的相对而置的下部电极和上部电极，其特征在于，所述装置还包括：固定在所述下部电极底部的转轴、与所述转轴相连的电机，其中，所述电机位于所述反应腔室的外部，用于控制所述转轴带动所述下部电极进行转动。
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