[实用新型]低温低压类金刚石膜化学气相沉积反应腔

摘要

低温低压类金刚石膜化学气相沉积反应腔，其特征在于它由腔体内的配气盘、腔体、气体流量控制器、静电吸盘、8英寸晶圆和托盘组成，所述配气盘放置于腔体内部上方，用于生产中输入反应气体；所述静电吸盘放置于配气盘下方，用于吸附晶圆和控制晶圆在反应过程中的温度；所述托盘和晶圆置于静电吸盘上；此反应刻蚀腔可大规模用来生长类金刚石薄膜。将应用材料的MxP刻蚀腔作为基本腔体，并在它的基础上加以改进，使之成为大规模生产类金刚石薄膜的专用设备。并在此基础上研究类金刚石薄膜在不同条件下的成分，晶体结构，和物理特性。由于所用的晶圆是6英寸或更小的晶圆，因此8英寸的MxP腔需要有下列的改进：晶圆托盘和对晶圆托盘的温度控制。

主权项

低温低压类金刚石膜化学气相沉积反应腔，其特征在于它由腔体内的配气盘、腔体、气体流量控制器、静电吸盘、8英寸晶圆和托盘组成，所述配气盘放置于腔体内部上方，用于生产中输入反应气体；所述静电吸盘放置于配气盘下方，用于吸附晶圆和控制晶圆在反应过程中的温度；所述托盘和晶圆置于静电吸盘上；此反应刻蚀腔可大规模用来生长类金刚石薄膜。