[实用新型]用于磁共振成像的梯度线圈组件和磁体组件有效
| 申请号： | 201620675093.2 | 申请日： | 2016-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN205920208U | 公开（公告）日： | 2017-02-01 |
| 发明（设计）人： | 刘曙光 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技有限公司 |
| 主分类号： | G01R33/385 | 分类号： | G01R33/385 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201807 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种用于磁共振成像的梯度线圈组件，包括主梯度线圈、屏蔽梯度线圈及填充层，所述主梯度线圈布置于屏蔽梯度线圈内侧，所述主梯度线圈、屏蔽梯度线圈通过填充层结合在一起，所述梯度线圈组件还包括数个附加元件，所述附加元件被设置于主梯度线圈和屏蔽梯度线圈之间，且所述附加元件的密度与填充层的密度不相同，本实用新型还公开了一种配置有所述梯度线圈组件的磁体组件；通过在梯度线圈上布置附加元件，改变梯度线圈的总质量和质量分布，可以调整共振频点位置，减小振动噪声。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 磁共振 成像 梯度 线圈 组件 磁体 | ||
【主权项】：
一种用于磁共振成像的梯度线圈组件，包括主梯度线圈、屏蔽梯度线圈及填充层，所述主梯度线圈布置于屏蔽梯度线圈内侧，所述主梯度线圈、屏蔽梯度线圈通过填充层结合在一起，其特征在于:所述梯度线圈组件还包括数个附加元件，所述附加元件被设置于主梯度线圈和屏蔽梯度线圈之间，且所述附加元件的密度与填充层的密度不相同。
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