[实用新型]用于分配UV被处理材料的系统有效
| 申请号： | 201620679183.9 | 申请日： | 2016-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN206391224U | 公开（公告）日： | 2017-08-11 |
| 发明（设计）人： | 廖翊韬;卧龙宝;D·柯林斯 | 申请（专利权）人： | 紫岳科技有限公司 |
| 主分类号： | A61L2/10 | 分类号： | A61L2/10;C02F1/32 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司11327 | 代理人： | 李琳,许向彤 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于提供被处理的材料设备包括用于处理输入的材料的材料处理部，其中所述材料处理部包括具有侧壁的处理区域、输入部、一个或多个UV‑LED以及输出部，其中所述侧壁配置为反射UV光，其中输入部用于接收输入的材料，其中一个或多个UV‑LED用于向在所述处理区域中的输入的材料提供在UV‑B和/或UV‑C频率范围内的UV‑B和/或UV‑C照射，其中在材料处理部中的输入的材料以响应于UV‑B和/或UV‑C照射而被处理，并且其中所述输出部用于提供所述被处理的材料的输出。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 分配 uv 处理 材料 系统 | ||
【主权项】：
一种用于分配UV被处理材料的系统，其特征在于，包括：材料处理部，所述材料处理部用于处理输入材料，其中，所述材料处理部包括：具有侧壁的处理区域；输入部；一个或多个UV‑LED；以及输出部；其中，所述侧壁被配置为反射UV光；其中，所述输入部用于接收所述输入材料；其中，所述一个或多个UV‑LED用于向所述处理区域中的输入材料提供在UV‑B和/或UV‑C频率范围内的UV‑B和/或UV‑C照射；其中，在所述材料处理部内的输入材料响应于所述UV‑B和/或所述UV‑C照射被处理；以及其中，所述输出部用于提供所述被处理的材料的输出。
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