[实用新型]薄膜晶体管、显示基板及显示器件有效

专利信息
申请号: 201620686361.0 申请日: 2016-07-01
公开(公告)号: CN205723551U 公开(公告)日: 2016-11-23
发明(设计)人: 吕振华;尤杨;王世君;陈希;薛艳娜;李月;包智颖;张勇;肖文俊;王磊;陈小川;姜文博;米磊 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L29/08
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;黄灿
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及显示技术领域,公开了一种薄膜晶体管、显示基板及显示器件。所述薄膜晶体管包括有源层、源电极和漏电极,所述有源层包括与所述源电极接触的源电极接触区、与所述漏电极接触的漏电极接触区,以及位于所述源电极接触区和漏电极接触区之间的沟道区。其中,所述源电极接触区和漏电极接触区的厚度小于所述沟道区的厚度,从而能够提高薄膜晶体管的导电性能,增大开态电流,改善薄膜晶体管的性能。另外,由于无需增加沟道的宽长比来增大开态电流,因此,薄膜晶体管的尺寸可以做得更小,对提升高分辨率显示产品的开口率非常有利。而且相对于现有技术中同样尺寸大小的薄膜晶体管,本实用新型的薄膜晶体管像素充电率更好。
搜索关键词: 薄膜晶体管 显示 器件
【主权项】:
一种薄膜晶体管,包括有源层、源电极和漏电极,所述有源层包括与所述源电极接触的源电极接触区、与所述漏电极接触的漏电极接触区,以及位于所述源电极接触区和漏电极接触区之间的沟道区,其特征在于,所述源电极接触区和漏电极接触区的厚度小于所述沟道区的厚度。
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