[实用新型]旋转式磁控靶及卧式磁控溅射镀膜设备有效
| 申请号： | 201620688645.3 | 申请日： | 2016-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN205907351U | 公开（公告）日： | 2017-01-25 |
| 发明（设计）人： | 朱建明;李金清;张闰华 | 申请（专利权）人： | 肇庆市科润真空设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司44245 | 代理人： | 谢静娜,裘晖 |
| 地址： | 52606*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开一种旋转式磁控靶及卧式磁控溅射镀膜设备，旋转式磁控靶包括靶材、磁芯和磁铁，磁芯设于靶材中部，磁芯外周设有至少一个磁铁，磁铁朝向靶材的一端呈锥形。卧式磁控溅射镀膜设备包括依次连接的前预抽室、前粗抽室、前精抽室、前缓冲室、镀膜室、后缓冲室、后精抽室、后粗抽室和后预抽室，镀膜室为一个或多个，各镀膜室中设有旋转式磁控靶，旋转式磁控靶位于工件上方。本旋转式磁控靶通过将磁铁末端设计为尖端，增强了磁力线在靶材表面的分布密度，可加大溅射出来的靶材粒子数量，从而提高了工件表面的镀膜效率。将其应用于卧式磁控溅射镀膜设备中，可有效提高工件的镀膜效率，缩短整个工艺线的生产周期，从而提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 旋转 式磁控靶 卧式 磁控溅射 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
一种旋转式磁控靶，其特征在于，包括靶材、磁芯和磁铁，磁芯设于靶材中部，磁芯外周设有至少一个磁铁，磁铁朝向靶材的一端呈锥形。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于肇庆市科润真空设备有限公司，未经肇庆市科润真空设备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201620688645.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种用于生产镀硫化砷产品的蒸镀设备
- 下一篇：真空镀膜系统用的快速抽真空机组
- 同类专利
- 专利分类
