[实用新型]一种用于钠还原氟钽酸钾的反应容器盖及反应容器有效
申请号: | 201620724418.1 | 申请日: | 2016-07-08 |
公开(公告)号: | CN205774747U | 公开(公告)日: | 2016-12-07 |
发明(设计)人: | 朱德忠;郑浩宇 | 申请(专利权)人: | 江门富祥电子材料有限公司 |
主分类号: | C22B34/24 | 分类号: | C22B34/24;B22F9/20 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人: | 赵蕊红 |
地址: | 529152 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种用于钠还原氟钽酸钾的反应容器盖,该反应容器盖包括设在其上的热电偶、注钠管、加料管、惰性气体进气管、排气管和搅拌桨,其特征在于还包括:与反应容器相配的法兰圈;与所述法兰圈相连接的拱形部;设于反应容器盖下方的集钠器,所述拱形部的顶部到所述法兰圈的高度大于集钠器的高度。本实用新型采用拱形部的设计,增加了物料的装入量,提高了钠还原氟钽酸钾生产钽粉的效率高。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 还原 氟钽酸钾 反应 容器 | ||
【主权项】:
一种用于钠还原氟钽酸钾的反应容器盖,该反应容器盖包括设在其上的热电偶、注钠管、加料管、惰性气体进气管、排气管和搅拌桨,其特征在于还包括:与反应容器相配的法兰圈;与所述法兰圈相连接的拱形部;设于反应容器盖下方的集钠器,所述拱形部的顶部到所述法兰圈的高度大于集钠器的高度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江门富祥电子材料有限公司,未经江门富祥电子材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201620724418.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:真空自耗电弧熔炼炉
- 下一篇:一种微波处理低品位锰矿反应器