[实用新型]支撑顶针及承载腔室有效
| 申请号： | 201620776723.5 | 申请日： | 2016-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN205774795U | 公开（公告）日： | 2016-12-07 |
| 发明（设计）人： | 李惠;王丹名;张首龙 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;H01L21/67;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司11138 | 代理人： | 滕一斌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种支撑顶针及承载腔室，属于显示器制造领域。所述支撑顶针包括多个支撑机构，所述多个支撑机构通过连接机构串接，每个所述支撑机构的高度方向与所述连接机构的高度方向平行，所述连接机构用于将所述多个支撑机构固定在承载腔室的内壁上，每个所述支撑机构能够在所述连接机构上移动至目标位置以支撑基板，且能够围绕所述连接机构旋转，所述支撑机构的侧面与所述基板线接触。本实用新型解决了支撑顶针的使用寿命较短的问题，实现了提高支撑顶针的使用寿命的效果，用于支撑基板。 | ||
| 搜索关键词： | 支撑 顶针 承载 | ||
【主权项】：
一种支撑顶针，其特征在于，所述支撑顶针包括多个支撑机构，所述多个支撑机构通过连接机构串接，每个所述支撑机构的高度方向与所述连接机构的高度方向平行，所述连接机构用于将所述多个支撑机构固定在承载腔室的内壁上，每个所述支撑机构能够在所述连接机构上移动至目标位置以支撑基板，且能够围绕所述连接机构旋转，所述支撑机构的侧面与所述基板线接触。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
