[实用新型]一种基板支撑装置有效
申请号: | 201620783823.0 | 申请日: | 2016-07-22 |
公开(公告)号: | CN206059364U | 公开(公告)日: | 2017-03-29 |
发明(设计)人: | 张万鹏;韩亚军;丁振勇;关江兵;张兴华;沙闯 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及显示技术领域,公开一种基板支撑装置,包括升降机构,还包括至少一个导向机构以及供气机构,其中每个导向机构包括一个导柱和一个套筒,导柱沿导柱的延伸方向上的一端安装于升降机构,套筒活动套设于导柱每个导向机构内形成有导气通道;供气机构包括至少一个供气管道和与每个供气管道连通的气源。该基板支撑装置可减少基板对机台的吸附力,减小了基板支撑装置在顶起基板时造成基板碎裂的概率,提高了显示面板产品的生产良率。 | ||
搜索关键词: | 一种 支撑 装置 | ||
【主权项】:
一种基板支撑装置,包括升降机构,其特征在于,还包括至少一个导向机构以及供气机构,其中:每个导向机构包括一个导柱和一个套筒,所述导柱沿所述导柱的延伸方向上的一端安装于所述升降机构,所述套筒活动套设于所述导柱,且可相对于所述导柱沿所述导柱的延伸方向滑动;每个导向机构内形成有导气通道,所述导气通道包括至少一个设置于所述导向机构靠近所述升降机构一端的第一导气口、和至少一个与每个第一导气口连通且设置于所述导向机构远离所述升降机构一端的第二导气口;所述供气机构包括至少一个供气管道和与每个供气管道连通的气源,每个导向机构中的每个第一导气口与所述气源通过一个供气管道连通。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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