[实用新型]一种应用于氯碱工业的盐水精制装置有效
申请号: | 201620785834.2 | 申请日: | 2016-07-25 |
公开(公告)号: | CN206219227U | 公开(公告)日: | 2017-06-06 |
发明(设计)人: | 彭文博;邓唯;陈留平;赵营峰;王肖虎;杨文银;丁邦超;范克银 | 申请(专利权)人: | 江苏久吾高科技股份有限公司;中盐金坛盐化有限责任公司 |
主分类号: | C01D3/14 | 分类号: | C01D3/14;C01D3/16 |
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地址: | 211808 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种应用于氯碱工业的盐水精制装置,属于氯碱工业技术领域。装置中包括有a)除阳离子杂质装置(1),用于去除盐水中的阳离子杂质;b)纳滤膜(5),用于对去除了阳离子杂质的盐水过滤处理。本实用新型的卤水精制装置可以有效地解决带有有机污染物的卤水在氯碱工业中造成离子膜电解效率低的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 应用于 工业 盐水 精制 装置 | ||
【主权项】:
一种应用于氯碱工业的盐水精制装置,包括:a)除阳离子杂质装置(1),用于去除盐水中的阳离子杂质;b)纳滤膜(5),用于对去除了阳离子杂质的盐水过滤处理;c) 离子膜电解装置(6),用于对纳滤膜(5)过滤后的盐水进行电解处理;纳滤膜(5)与离子膜电解装置(6)连接;所述的除阳离子杂质装置(1),包括有:沉淀剂加入装置(3),用于在盐水中加入沉淀剂使阳离子杂质沉淀;所述的沉淀剂加入装置(3)连接于反应槽(2);反应槽(2),用于沉淀剂与阳离子杂质发生沉淀反应;反应槽(2)与分离膜(4)连接;分离膜(4),用于去除反应生成的沉淀;分离膜(4)与纳滤膜(5)连接;所述的分离膜(4)是陶瓷膜。
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