[实用新型]废光刻胶回收再生系统有效
申请号: | 201620807404.6 | 申请日: | 2016-07-29 |
公开(公告)号: | CN205982984U | 公开(公告)日: | 2017-02-22 |
发明(设计)人: | 罗文烽 | 申请(专利权)人: | 罗文烽 |
主分类号: | G03F7/30 | 分类号: | G03F7/30 |
代理公司: | 杭州浙科专利事务所(普通合伙)33213 | 代理人: | 沈渊琪 |
地址: | 中国台湾新北*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型提供一种废光刻胶回收再生系统。本实用新型提供的废光刻胶回收再生系统包括中和装置、脱水装置与乙酰化装置。中和装置用于对废光刻胶进行中和处理。脱水装置连通至中和装置,且用于对中和处理后的废光刻胶进行脱水处理。乙酰化装置连通至脱水装置,且用于对脱水处理后的废光刻胶进行乙酰化处理,而获得乙酰化高分子。所述废光刻胶回收再生系统可有效地将废光刻胶进行回收再生利用。 | ||
搜索关键词: | 光刻 回收 再生 系统 | ||
【主权项】:
一种废光刻胶回收再生系统,其特征在于,包括:中和装置,用于对废光刻胶进行中和处理;脱水装置,连通至所述中和装置,且用于对所述中和处理后的所述废光刻胶进行脱水处理;以及乙酰化装置,连通至所述脱水装置,且用于对所述脱水处理后的所述废光刻胶进行乙酰化处理,而获得乙酰化高分子。
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