[实用新型]湿法刻蚀设备有效
| 申请号： | 201620808615.1 | 申请日： | 2016-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN205881881U | 公开（公告）日： | 2017-01-11 |
| 发明（设计）人： | 申请（专利权）人： | ||
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅,李时云 |
| 地址： | 430205 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种湿法刻蚀设备，包括反应室、可旋转的支撑平台和第一喷嘴，所述反应室的内壁上设置有侦测器，所述侦测器连接到湿法刻蚀设备控制端，所述支撑平台设置在所述反应室内，所述支撑平台用于放置待处理的晶圆，所述喷嘴设置所述支撑平台上。本实用新型的湿法刻蚀设备通过在反应室的内壁上设置侦测器，该侦测器连接到湿法刻蚀设备控制端，在湿法刻蚀过程中，当晶圆转动异常时，其上的液体(反应液)将会溅射出来，当侦测器侦测到溅射到反应室的内壁上的反应液时，便可得到晶圆转动异常的信息，然后便可通过湿法刻蚀设备控制端来控制湿法刻蚀设备的工作，防止晶圆转动异常损伤到晶圆，从而及时处理并减少损失。 | ||
| 搜索关键词： | 湿法 刻蚀 设备 | ||
【主权项】：
一种湿法刻蚀设备，其特征在于，包括：反应室，所述反应室的内壁上设置有侦测器，所述侦测器连接到湿法刻蚀设备控制端；支撑平台，所述支撑平台为可旋转的支撑平台，所述支撑平台设置在所述反应室内；第一喷嘴，所述第一喷嘴设置在所述支撑平台上。
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