[实用新型]掩膜板有效
申请号: | 201620809777.7 | 申请日: | 2016-07-29 |
公开(公告)号: | CN205844737U | 公开(公告)日: | 2016-12-28 |
发明(设计)人: | 范波涛 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | G03F1/50 | 分类号: | G03F1/50;G03F1/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人: | 智云 |
地址: | 215300 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种掩膜板,所述掩膜板包括:支撑掩膜板;及精密掩膜板,所述精密掩膜板位于所述支撑掩膜板上,所述精密掩膜板包括过渡区,所述过渡区中具有第一图案,所述第一图案包括通孔,所述过渡区与所述支撑掩膜板对应。在本实用新型实施例提供的掩膜板中,通过所述精密掩膜板包括过渡区,所述过渡区中具有第一图案,所述第一图案包括通孔,即所述过渡区中存在镂空的部分,由此可以提高掩膜板的应力分散效果。进一步的,通过还包括支撑掩膜板,所述过渡区与所述支撑掩膜板对应,从而通过所述支撑掩膜板可以起到阻挡有机材料蒸镀到AMOLED显示面板的有源区(AA区)之间的过渡区的目的了。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 | ||
【主权项】:
一种掩膜板,其特征在于,所述掩膜板包括:支撑掩膜板;及精密掩膜板,所述精密掩膜板位于所述支撑掩膜板上,所述精密掩膜板包括过渡区,所述过渡区中具有第一图案,所述第一图案包括通孔,所述过渡区与所述支撑掩膜板对应。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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