[实用新型]电路板酸性蚀刻装置有效
| 申请号： | 201620814971.4 | 申请日： | 2016-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN205912356U | 公开（公告）日： | 2017-01-25 |
| 发明（设计）人： | 许明灯;高楚涛 | 申请（专利权）人： | 深圳市嘉立创科技发展有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/06 | 分类号： | H05K3/06 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 | 代理人： | 吴平 |
| 地址： | 523651 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种电路板酸性蚀刻装置，包括电路板在蚀刻处理时依次进入的第一蚀刻反应缸、第二蚀刻反应缸和第三蚀刻反应缸，所述第一蚀刻反应缸、第二蚀刻反应缸和第三蚀刻反应缸中的任意两个连通，所述第一蚀刻反应缸底部设置有溢流管道；在反应最激烈，产生杂物最多的第一蚀刻反应缸设置溢流管道，提高了该电路板酸性蚀刻装置的反应溶剂的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 电路板 酸性 蚀刻 装置 | ||
【主权项】：
一种电路板酸性蚀刻装置，其特征在于，包括：电路板在蚀刻处理时依次进入的第一蚀刻反应缸、第二蚀刻反应缸和第三蚀刻反应缸，所述第一蚀刻反应缸、第二蚀刻反应缸和第三蚀刻反应缸中的任意两个连通，所述第一蚀刻反应缸底部设置有溢流管道。
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