[实用新型]一种废气处理系统

摘要

一种废气处理系统，用以处理半导体工艺中所产生的废气，其包含有依序设置且相互连通的一前处理装置、一氧化装置、一淬火装置以及一后处理装置，该前处理装置包含有一朝该废气喷洒一第一洗涤液的第一洗涤器，该氧化装置包含有一对该废气加热的加热器，该淬火装置包含有一朝该废气喷洒一降温流体的降温器，该后处理装置包含有一朝该废气喷洒一第二洗涤液的第二洗涤器。该第一洗涤液与该第二洗涤液可以对废气进行中和，并冲洗掉废气中的颗粒物质，而该加热器可以对该废气的有害物质进行氧化，如此一来，可以有效的去除废气中的有害物质。

主权项

一种废气处理系统，用以处理半导体工艺中所产生的废气，其特征在于，该废气处理系统包含有：一前处理装置，该前处理装置包含有一前处理管道以及一设置于该前处理管道中的第一洗涤器，该前处理管道包含有一供该废气进入的进气口以及一设置于该前处理管道内并与该进气口连通的保护管道，该第一洗涤器朝该废气喷洒一第一洗涤液；一氧化装置，该氧化装置包含有一与该前处理管道连通以接收该废气的氧化管道以及一绕设于该氧化管道外的加热器；一淬火装置，该淬火装置包含有一与该氧化管道连接以接收该废气的淬火管道以及一设置于该淬火管道并朝该废气喷洒一降温流体的降温器；以及一后处理装置，该后处理装置包含有一与该淬火管道连通以接收该废气的后处理管道以及一设置于该后处理管道中的第二洗涤器，该第二洗涤器朝该废气喷洒一第二洗涤液，该后处理管道包含有一排放处理后的该废气的排气口。