[实用新型]一种加工晶片边缘倒角用变半径值砂轮有效

专利信息
申请号: 201620820937.8 申请日: 2016-08-01
公开(公告)号: CN205968690U 公开(公告)日: 2017-02-22
发明(设计)人: 杨洪星;刘玉岭;范红娜;韩焕鹏;何远东;陈晨;陶术鹤;赵权;杨静 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十六研究所
主分类号: B24D5/14 分类号: B24D5/14
代理公司: 天津中环专利商标代理有限公司12105 代理人: 胡京生
地址: 300220*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 实用新型涉及一种加工晶片边缘倒角用变半径值砂轮,在砂轮圆周面有数组并列的变半径值槽,每组变半径值槽至少为三个,槽底形状为根据晶片厚度和加工面幅宽度决定半径分别是R1、R2、R3…Rn且满足R1>R2>R3>…Rn,在槽中分别进行边缘初步成型、边缘二次成型、…边缘最终成型,技术效果是有效降低硅片边缘损伤层深度,实现晶片近表面区域缓慢变化,有利于晶片边缘质量控制。
搜索关键词: 一种 加工 晶片 边缘 倒角 半径 砂轮
【主权项】:
一种加工晶片边缘倒角用变半径值砂轮,其特征在于:在砂轮圆周面有数组并列的变半径值槽,每组变半径值槽至少为三个,变半径值槽半径分别是R1、R2、R3…Rn且满足R1>R2>R3>…Rn,槽底形状为半圆形,各槽圆心与砂轮圆周面的距离是第一槽为0毫米,其余各槽为Rn‑1‑Rn 毫米,各槽两个半角θ与槽边相切的延长线和砂轮圆周面交点处导圆角。
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