[实用新型]表面处理均匀的双面电晕机有效

专利信息
申请号: 201620859232.7 申请日: 2016-08-10
公开(公告)号: CN205951332U 公开(公告)日: 2017-02-15
发明(设计)人: 叶爱磊;戴玮洁;郑世容 申请(专利权)人: 苏州泰仑电子材料有限公司
主分类号: B29C71/04 分类号: B29C71/04;B08B6/00
代理公司: 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙)11369 代理人: 韩飞
地址: 215000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种表面处理均匀的双面电晕机,包括控制系统;机架,其内部相邻地设有除尘室与电晕室;以及沿薄膜传送方向依次设置的表面灰尘检测机构、表面灰尘除尘机构、及电晕处理机构,其中,所述表面灰尘检测机构及表面灰尘除尘机构设于所述除尘室内,所述电晕处理机构设于所述电晕室内,所述表面灰尘检测机构、表面灰尘除尘机构、及电晕处理机构分别与所述控制系统电连接。本实用新型具有除了能够进行双面电晕处理外,还能够对待电晕处理的薄膜表面洁净度进行检测并进行除尘处理,进一步提高电晕处理后的薄膜表面质量的有益效果。
搜索关键词: 表面 处理 均匀 双面 晕机
【主权项】:
一种表面处理均匀的双面电晕机,其特征在于,包括:控制系统;机架,其内部相邻地设有除尘室与电晕室;以及沿薄膜传送方向依次设置的表面灰尘检测机构、表面灰尘除尘机构、及电晕处理机构,其中,所述表面灰尘检测机构及表面灰尘除尘机构设于所述除尘室内,所述电晕处理机构设于所述电晕室内,所述表面灰尘检测机构、表面灰尘除尘机构、及电晕处理机构分别与所述控制系统电连接。
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