[实用新型]一种用于荧光分析仪的光斑整形光学系统有效

专利信息
申请号: 201620872529.7 申请日: 2016-08-12
公开(公告)号: CN206074449U 公开(公告)日: 2017-04-05
发明(设计)人: 杨征;邱梦春;林吉君 申请(专利权)人: 杭州凯珥医疗科技有限公司
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64;G02B27/09
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310018 浙江省杭州市经*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型提供一种用于荧光分析仪的光斑整形光学系统,用于对位于检测区的物质进行荧光分析,包括光源,用于发出入射光;光斑整形透镜,用于将所述入射光进行光斑整形,形成与所述检测区形状相匹配的检测光斑;所述检测光斑投射至检测区,激发检测区的荧光物质形成荧光;荧光接收光路,用于接收并感测所述荧光。本实用新型中光源发出的大部分光可以透过光斑整形透镜进而到达检测区,提高了光源的光利用率,在同等光源发光条件下,与对入射光进行遮挡的方案相比,本实用新型实际到达检测区的光强更强,可以有效提高荧光分析仪的灵敏度。
搜索关键词: 一种 用于 荧光 分析 光斑 整形 光学系统
【主权项】:
一种光学系统,其特征在于,用于对位于检测区的物质进行荧光分析,包括:光源,用于发出入射光;光斑整形透镜,用于对所述入射光进行光斑整形,形成与所述检测区形状相匹配的检测光斑;所述检测光斑投射至检测区,激发检测区的荧光物质形成荧光;荧光接收光路,用于接收并感测所述荧光。
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