[实用新型]图形转移菲林和用于PCB板图形转移的菲林工装有效
| 申请号： | 201620901545.4 | 申请日： | 2016-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN205982982U | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | 张林武 | 申请（专利权）人： | 宏俐（汕头）电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/42 | 分类号： | G03F1/42 |
| 代理公司： | 广东广和律师事务所44298 | 代理人： | 章小燕 |
| 地址： | 515071 广东省汕头市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开一种图形转移菲林和用于PCB板图形转移的菲林工装。其中，图形转移菲林包括有效图形区域和边框区域，所述边框区域围绕所述有效图形区域；所述边框区域上设有多个挡点，部分所述挡点的位置开设有定位孔，用以供挂钉的钉头穿过。本实用新型具有提高生产效率和降低误差的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 图形 转移 用于 pcb 工装 | ||
【主权项】：
一种图形转移菲林，包括有效图形区域和边框区域，所述边框区域围绕所述有效图形区域；所述边框区域上设有多个挡点，其特征在于，部分所述挡点的位置开设有定位孔，用以供挂钉的钉头穿过。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宏俐（汕头）电子科技有限公司，未经宏俐（汕头）电子科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201620901545.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种手持全景拍摄设备
- 下一篇：废光刻胶回收再生系统
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
