[实用新型]一种等离子刻蚀固定装置有效
| 申请号： | 201620909135.4 | 申请日： | 2016-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN205944029U | 公开（公告）日： | 2017-02-08 |
| 发明（设计）人： | 吕承鹏;刘亚坤;吕康理;于玉斋;张黎明;王明明;吕飞;涂亮亮;魏明德 | 申请（专利权）人： | 徐州同鑫光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/20 | 分类号： | H01J37/20;H01J37/32 |
| 代理公司： | 徐州市三联专利事务所32220 | 代理人： | 周爱芳 |
| 地址： | 221000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种等离子刻蚀固定装置，属于PSS制程领域，包括上Tray盘、设置在上Tray盘下端且与上Tray盘配合的下Tray盘，所述上Tray盘与下Tray盘间设有PSS，所述上Tray盘中间开有圆形空腔，上Tray盘与PSS边缘重合距离0.2‑1mm；所述上Tray盘的空腔边缘设有倾斜部，所述倾斜部表面为平整斜面，且斜面与PSS面夹角为15‑60°。本实用新型装置通过将原有上Tray盘的垂直结构改为倾斜部，且采用光滑平整的斜面，可有效降低等离子扰流现象，提高产品良率；另外通过设计上Tray盘与PSS边缘重合距离0.2‑1mm，进一步提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 刻蚀 固定 装置 | ||
【主权项】：
一种等离子刻蚀固定装置，包括上Tray盘(1)、设置在上Tray盘(1)下端且与上Tray盘(1)配合的下Tray盘(2)，其特征在于，所述上Tray盘(1)与下Tray盘(2)间设有PSS，所述上Tray盘(1)中间开有圆形空腔，上Tray盘(1)与PSS边缘重合距离0.2‑1mm；所述上Tray盘(1)的空腔边缘设有倾斜部(11)，所述倾斜部(11)表面为平整斜面，且斜面与PSS面夹角为15‑60°。
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