[实用新型]硅片水平清洗设备

摘要

本实用新型公开的硅片水平清洗设备，包括传输机构、毛刷机构、超声机构、喷淋机构和烘干机构，传输机构具有引入硅片的上游以及输出硅片的下游，毛刷机构、超声机构以及喷淋机构均设置于传输机构的上游与下游之间，烘干机构设置于传输机构的下游，毛刷机构用于刷洗硅片表面，超声机构用于超声清洗硅片，喷淋机构用于向接受刷洗或超声清洗的硅片喷淋清洗液，烘干机构用于干燥处理经毛刷机构、超声机构和喷淋机构处理后的硅片。本实用新型的硅片水平清洗设备在水平刷洗过程中辅助于超声、喷淋的机械物理作用，减少甚至彻底避免了化学试剂的使用，同时降低纯水消耗及能耗，提高了硅片清洗的自动化程度及清洗效率。

主权项

硅片水平清洗设备，其特征在于，包括传输机构、毛刷机构、超声机构、喷淋机构和烘干机构，所述传输机构用于承载并传输硅片，所述传输机构具有引入所述硅片的上游以及输出所述硅片的下游，所述毛刷机构、所述超声机构以及所述喷淋机构均设置于所述传输机构的上游与下游之间，所述烘干机构设置于所述传输机构的下游，所述毛刷机构用于刷洗硅片表面，所述超声机构用于超声清洗硅片，所述喷淋机构与所述毛刷机构、所述超声机构相对应，用于向接受刷洗或超声清洗的硅片喷淋清洗液，烘干机构用于干燥处理经所述毛刷机构、所述超声机构和所述喷淋机构处理后的硅片。