[实用新型]用于在CVD或PVD反应器的过程室中固持至少一个基材的设备有效
| 申请号： | 201620924056.0 | 申请日： | 2016-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN206232802U | 公开（公告）日： | 2017-06-09 |
| 发明（设计）人： | J.奥多德;D.克拉本斯;O.菲隆 | 申请（专利权）人： | 艾克斯特朗欧洲公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C16/458 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 侯宇,李萌 |
| 地址： | 德国黑*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于在CVD或PVD反应器的过程室中固持至少一个基材(20)的设备，在所述反应器的平坦的顶侧上具有至少一个被至少一个定位边(3)限定的、用于容纳至少一个基材(20)的支承兜孔(2)，其中，所述支承兜孔(2)具有支承兜孔底部(4)，在定位边(3)附近从所述支承兜孔底部突伸出支承凸起(8)，所述支承凸起构成被侧壁(10)围绕的支承区(9)，所述支承区位于支承平面(E)中，所述支承平面相对于围绕支承凸起(8)的槽(5)比相对于支承兜孔底部(4)具有更大的垂直间距。为了提高基材的顶侧上的温度均匀度规定，所述槽(5)在凹陷(11)中延伸，所述凹陷的垂直水平面位于槽(5)的底部(6)与支承兜孔底部(4)之间。支承凸起(8)和/或包围所述支承凸起(8)的槽(5)相对于定位边(3)具有水平间距。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 cvd pvd 反应器 过程 室中固持 至少 一个 基材 设备 | ||
【主权项】：
一种用于在CVD或PVD反应器的过程室中固持至少一个基材(20)的设备，在所述反应器的平坦的顶侧上具有至少一个被至少一个定位边(3)限定的、用于容纳至少一个基材(20)的支承兜孔(2)，其中，所述支承兜孔(2)具有支承兜孔底部(4)，在定位边(3)附近从所述支承兜孔底部突伸出支承凸起(8)，所述支承凸起构成被侧壁(10)围绕的支承面(9)，所述支承面位于支承平面(E)中，所述支承平面相对于围绕支承凸起(8)的槽(5)比相对于支承兜孔底部(4)具有更大的垂直间距，其特征在于，所述槽(5)在凹陷(11)中延伸，所述凹陷的垂直水平面位于所述槽(5)的底部(6)与所述支承兜孔底部(4)之间。
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