[实用新型]一种钙钛矿层薄膜的成型设备及其应用有效
申请号: | 201620939493.X | 申请日: | 2016-08-25 |
公开(公告)号: | CN206408291U | 公开(公告)日: | 2017-08-15 |
发明(设计)人: | 姚冀众;颜步一 | 申请(专利权)人: | 杭州纤纳光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/56 |
代理公司: | 浙江一墨律师事务所33252 | 代理人: | 陈红珊 |
地址: | 311121 浙江省杭州市余杭区*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种钙钛矿层薄膜的成型设备及其应用,利用一管状腔体,管状腔体依次设置有基片进入段、沉积腔、过渡腔、退火腔以及基片取出段等五个部分,在管状腔体内设置传送装置,在沉积腔和退火腔分别设置有载物台、气压调节装置和加热装置,在相邻段与腔室以及各腔室之间分别利用隔板隔开,将待沉积薄膜的基片放置在基板架上,由传送装置从基片进入段开始,依次连续地通过沉积腔、过渡腔和退火腔后,最后从基片取出段的基板架上取出已沉积完钙钛矿层薄膜的基片,将沉积成膜和退火工艺结合在一起,实现钙钛矿层薄膜产品的连续性生产。利用本实用新型的设备制造的钙钛矿层薄膜晶体颗粒大小均匀、致密,具有良好的光电转换效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 矿层 薄膜 成型 设备 及其 应用 | ||
【主权项】:
一种钙钛矿层薄膜的成型设备,其特征在于,包括管状腔体和传送装置,所述传送装置设置在管状腔体内,在所述管状腔体前后分别设置有基片进入段和基片取出段,所述管状腔体分别设置有若干沉积腔和/或过渡腔和/或退火腔,在所述沉积腔中设置有放置沉积反应物的载物台,在所述退火腔中设置有放置退火辅助溶剂的载物台,在所述沉积腔和退火腔中还分别设置气压调节装置和加热装置,所述加热装置分别对载物台中的沉积反应物和退火辅助溶剂进行加热,所述沉积反应物和退火辅助溶剂加热蒸发后其气体颗粒沉积到位于所在腔室中的待沉积薄膜的基片表面上,在相邻段与腔室以及各腔室之间分别利用隔板隔开;待沉积薄膜的基片放置在基板架上,由传送装置输送。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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