[实用新型]一种轴向二极管酸洗装置有效
申请号: | 201620989732.2 | 申请日: | 2016-08-29 |
公开(公告)号: | CN206040599U | 公开(公告)日: | 2017-03-22 |
发明(设计)人: | 郭素芬 | 申请(专利权)人: | 天津汉德威药业有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 天津滨海科纬知识产权代理有限公司12211 | 代理人: | 刘莹 |
地址: | 300350 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种轴向二极管酸洗装置,包括酸液箱、酸洗槽和酸洗筐,所述酸洗槽两侧壁上端均设置有第一弹性件,两侧壁内部分别设置有一中空单元,所述两中空单元内部分别设置有第一气缸和第二气缸;所述酸洗槽内部底部设置有第二弹性件,所述第二弹性件固定连接有带孔板,所述带孔板上面托有所述酸洗筐;所述酸洗筐两侧外部分别与所述第一气缸和第二气缸连接,上边缘设置有卡环;所述卡环活动连接有除雾单元,所述除雾单元通过电机连接轴连接有一升降电机。本实用新型所述的一种轴向二极管酸洗装置,由于采用上述技术方案,可保证二极管与酸液的充分接触,提高酸洗质量,同时实现酸雾的吸收处理,改善工作环境。 | ||
搜索关键词: | 一种 轴向 二极管 酸洗 装置 | ||
【主权项】:
一种轴向二极管酸洗装置,包括酸液箱(1)、酸洗槽(2)和酸洗筐(3),酸洗框(3)的顶端侧壁和底面为网状,其特征在于:所述酸液箱(1)上设置有第一进液管(4)和第一出液管(5);所述酸洗槽(2)上设置有第二进液管(6)和第二出液管(7),所述第二进液管(6)和第一出液管(5)通过螺纹连接;所述酸洗槽(2)两侧壁上均设置有第一弹性件(8),两侧壁内部分别设置有一中空单元(9),所述两中空单元(9)内部分别设置有第一气缸(10)和第二气缸(11);所述酸洗槽(2)内部底部设置有第二弹性件(12),所述第二弹性件(12)固定连接有一带孔板(13);所述酸洗筐(3)放置在所述带孔板(13)上面;所述酸洗筐(3)两侧分别与所述第一气缸(10)和第二气缸(11)连接,上边缘设置有卡环(14);所述卡环(14)活动连接有除雾单元(15),所述除雾单元(15)顶部固定连接有一电机连接轴(16),所述电机连接轴(16)连接有一升降电机(17),所述升降电机(17)固定在支架(18)上;所述除雾单元(15)与所述第一弹性件(8)活动连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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