[实用新型]一种单晶制绒清洗机有效
| 申请号： | 201620990697.6 | 申请日： | 2016-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN205959963U | 公开（公告）日： | 2017-02-15 |
| 发明（设计）人： | 姜涛 | 申请（专利权）人： | 苏州聚晶科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L31/18;C30B33/10 |
| 代理公司： | 苏州市指南针专利代理事务所(特殊普通合伙)32268 | 代理人： | 李先锋 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种单晶制绒清洗机，包括清洗本体，清洗本体包括三个箱体，清洗本体前端设有进料口，清洗本体后端设有出料口，进料口和出料口位置分别设有传送带，传送带上方设有多个用于抓取物料的机械手，清洗本体上盖上设有排风口，清洗本体内还设有制绒槽、酸洗槽、水洗槽、预脱水槽和烘干槽，每个槽体下方设有加热装置和温度传感器，清洗本体内还设有与每个槽体相连的配液补液系统。本实用新型有利于实现单晶制绒的全自动清洗，能对整个清洗过程进行监控和管理，采用箱体结构，适用于工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单晶制绒 清洗 | ||
【主权项】：
一种单晶制绒清洗机，其特征在于，包括清洗本体，清洗本体包括三个箱体，清洗本体前端设有进料口，清洗本体后端设有出料口，进料口和出料口位置分别设有传送带，传送带上方设有多个用于抓取物料的机械手，清洗本体一侧设有用于调控清洗本体内的清洗过程，并对清洗过程进行实时监控的控制柜，清洗本体上盖上设有排风口，清洗本体内还设有制绒槽、酸洗槽、水洗槽、预脱水槽和烘干槽，每个槽体下方设有加热装置和温度传感器，清洗本体内还设有与每个槽体相连的配液补液系统。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
